Standard Practice for Reporting Sputter Depth Profile Data in Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)
标准号:ASTM E1162-2011
标准名称: 报告次级离子质谱分析法(SIMS)中溅深深度文件数据的标准操作规程
英文名称:Standard Practice for Reporting Sputter Depth Profile Data in Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS)
标准类型:国外标准
标准状态:现行
中国标准分类号(CCS):A43
国际标准分类号(ICS):71.040.50
ASTM E1162-2006 现行
报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程
ASTM E1162-1987(2001) 现行
二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
ASTM E1162-1987(1996) 现行
ASTM C1162/C1162M-1990(2009)e1 现行
石棉散装密度的标准试验方法
ASTM C1162-1990(2004)e1 现行
石棉散装密度试验方法
ASTM F1162-2002 现行
撑杆跳高降落设备的标准规范
ASTM C1162-1990(1999) 现行
ANSI/ASTM F1162-2012 现行
撑杆跳着陆系统规格
DB35/T 1162-2011 现行
日用陶瓷单位产品能耗限额
AS 1162-2000 现行
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