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半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法

Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method

国外标准 现行

标准号:DIN 50453-2-1990

标准名称: 半导体工艺材料的检验.蚀刻混合剂浸蚀率的测定.第2部分:二氧化硅涂层.光学法

英文名称:Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method

标准类型:国外标准

标准状态:现行

中国标准分类号(CCS):H82

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