定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法

Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness

国外标准现行

标准号：ASTM F1894-1998(2003)

标准名称：定量分析硅化钨半导体加工膜组分和厚度的标准试验方法

英文名称：Test Method for Quantifying Tungsten Silicide Semiconductor Process Films for Composition and Thickness

标准类型：国外标准

标准状态：现行

中国标准分类号（CCS）：H82

国际标准分类号（ICS）：29.045

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