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用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法

Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry

国外标准 现行

标准号：ASTM F1366-1992(1997)e1

标准名称： 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法

英文名称：Standard Test Method for Measuring Oxygen Concentration in Heavily Doped Silicon Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry

标准类型：国外标准

标准状态：现行

中国标准分类号（CCS）：H82

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