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用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度

Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS

国外标准 现行

标准号:ASTM E1438-1991(1996)

标准名称: 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度

英文名称:Standard Guide for Measuring Widths of Interfaces in Sputter Depth Profiling Using SIMS

标准类型:国外标准

标准状态:现行

中国标准分类号(CCS):H80

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