表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物

Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

国外标准现行

标准号：JISK 0148-2005

标准名称：表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物

英文名称：Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

标准类型：国外标准

标准状态：现行

中国标准分类号（CCS）：A43

国际标准分类号（ICS）：71.040.40

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