标准查询 标准查询平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
标准简介：本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单（或合同）内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
标准号：YS/T 718-2009
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
英文名称：Flat magneting sputtering target—Niobium target for optical coating
标准类型：行业标准
标准性质：推荐性
标准状态：现行
发布日期：2009-12-04
实施日期：2010-06-01
中国标准分类号（CCS）：冶金>>有色金属及其合金产品>>H63稀有高熔点金属及其化合物
国际标准分类号（ICS）：冶金>>有色金属产品>>77.150.99其他有色金属产品
起草单位：金川集团有限公司
归口单位：全国有色金属标准化技术委员会
发布单位：工业和信息化部
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