High-purity sputtering titanium target used in electronic film
标准简介:本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同(订单)等内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
标准号:YS/T 893-2013
标准名称:电子薄膜用高纯钛溅射靶材
英文名称:High-purity sputtering titanium target used in electronic film
标准类型:行业标准
标准性质:推荐性
标准状态:现行
发布日期:2013-10-17
实施日期:2014-03-01
中国标准分类号(CCS):冶金>>有色金属及其合金产品>>H64稀有轻金属及其合金
国际标准分类号(ICS):冶金>>有色金属产品>>77.150.50钛产品
起草单位:有研亿金新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料有限公司
归口单位:全国有色金属标准化技术委员(SAC/TC 243)
发布单位:工业和信息化部